影響光譜分析儀測量有哪些內(nèi)在因素

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　　光譜分析儀一般應(yīng)用于合金分析儀檢測、礦石元素含量測定和土壤重金屬現(xiàn)場分析。那么如何保證手持光譜儀在使用中的順利應(yīng)用?這需要在使用之前對設(shè)備進行全面仔細的檢查。

　　在了解了光譜分析儀的投射測定的相關(guān)內(nèi)容后，我們再來看看影響測量的一些內(nèi)在因素。

　　1.物理干擾

　　物理干擾是指在樣品轉(zhuǎn)移和蒸發(fā)過程中任何物理因素變化引起的干擾效應(yīng)。屬于此類干擾的因素包括：測試溶液的粘度、溶劑的蒸氣壓、霧化氣體的壓力等。物理干擾是非選擇性干擾，對樣品元素的影響基本相似。

　　制備類似于測試樣品的標(biāo)準樣品是消除物理干擾的常用方法。當(dāng)樣品的成分未知或無法匹配時，可以使用標(biāo)準添加方法或稀釋方法來減少和消除物理干擾。

　　2.化學(xué)干擾

　　化學(xué)干擾是指由測試元件與其他組件之間的化學(xué)相互作用引起的干擾效應(yīng)。它主要影響測試元件的原子化效率，并且是原子吸收分光光度法中干擾的主要來源。這是由于在液相或氣相中被測元素的原子與干擾物質(zhì)的組成之間形成了熱力學(xué)更穩(wěn)定的化合物，這影響了被測元素化合物的離解和原子化。

　　消除化學(xué)干擾的方法包括：化學(xué)分離;使用高溫火焰;加入釋放劑和保護劑等。

　　3.電離干擾

　　高溫下原子的電離會降低基態(tài)原子的濃度，并導(dǎo)致原子吸收信號降低，這種干擾稱為電離干擾。電離效應(yīng)隨溫度和電離平衡常數(shù)的增加而增加，而隨被測元素濃度的增加而減小。添加更容易電離的堿金屬元素可以有效消除電離干擾。

　　4.光譜干擾

　　光譜干擾包括譜線重疊、光譜通帶內(nèi)存在非吸收線、原子化池內(nèi)的直流發(fā)射、分子吸收、光散射等。當(dāng)采用銳線光源和交流調(diào)制技術(shù)時，前3種因素一般可以不予考慮，主要考慮分子吸收和光散射地影響，它們是形成光譜背景的主要因素。

　　5.分子吸收干擾

　　分子吸收干擾是指由原子化過程中產(chǎn)生的氣體分子，氧化物和鹽分子吸收輻射引起的干擾。光散射是指在霧化過程中生成的固體顆粒會散射光，從而使散射光偏離光路，并且無法被檢測器檢測到，從而導(dǎo)致高吸收值。

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